Российские учёные совершили прорыв в микроэлектронике

В Москве Научно-исследовательский институт точного машиностроения (НИИТМ) представил первую в России установку для нанесения тонких слоёв материалов на кремниевые пластины диаметром до 300 мм — ключевой этап в производстве современных микросхем. До сих пор подобное оборудование приходилось закупать за рубежом, но новая разработка полностью локализована и соответствует мировым стандартам.

Установка также поддерживает работу с пластинами 200 мм, что упрощает интеграцию в действующие производственные линии и ускоряет переход на передовые технологии. По словам разработчиков, им удалось в короткие сроки наладить выпуск критически важных компонентов внутри страны. Это открывает путь к полному импортозамещению в микроэлектронике и снижению зависимости от иностранных поставщиков.

Эксперты называют разработку НИИТМ стратегически важной для российской промышленности, особенно в условиях санкционного давления. Внедрение таких установок позволит наращивать выпуск отечественной электроники для телекоммуникаций, оборонного комплекса и высокотехнологичных отраслей экономики.

Фото: Соцсети